光刻技术oncell

光刻是将掩模版上的图形转移到涂有光致抗蚀剂（或称光刻胶）的硅片上，通过一系列生产步骤将硅片表面薄膜的特定部分除去的一种图形转移技术。光刻技术是借用照相技术、平板印刷技术的基础上发展起来的半导体关键工艺技术。
通俗易懂的说，集成电路制造，是要在几平方厘米的面积上，成批的制造出数以亿计的器件，而每个器件结构的也相当复杂，如图1所示。打个比方，这个规模相当于在一根头发丝的横截面积上制造几十上百万个这样的晶体管。有些类似于印刷术或者照相的技术，需要一个模具，然后想办法将模具上的图形结构转移到旋涂有光刻胶的基底上。然而由于要做的晶体管结构相当小，只有借用“无孔不入”的光来实现这一功能，这就是光刻技术，字面理解，就是用光来“雕刻”。